LAM RESEARCH

LAM RESEARCH 4528I ISOTROPIC ETCH INVAX ELECTRODE JEIDA ESC 8″ 230.140148-308 是泛林集团（Lam Research）生产的一款用于 8 英寸晶圆加工的各向同性刻蚀设备，具备以下关键特性和技术细节：

1. 产品核心功能

• 各向同性刻蚀（Isotropic Etch）
  通过化学或物理作用实现均匀的侧向和垂直刻蚀，适用于特定材料（如氧化硅、氮化硅等）的图案化或去除。
• INVAX 电极技术
  采用先进的电极设计，优化等离子体分布，提升刻蚀均匀性和效率。
• JEIDA ESC（静电吸盘）
  配备高精度静电吸盘，确保晶圆在刻蚀过程中的稳定性和温度控制。

2. 技术规格

• 晶圆尺寸：8 英寸（200mm），兼容主流晶圆尺寸。
• 型号标识：230.140148-308 为设备具体配置编号，可能对应特定工艺参数或硬件版本。
• 刻蚀类型：各向同性（Isotropic），适用于需要均匀刻蚀的应用场景。

3. 应用领域

• 半导体制造：用于晶圆表面材料去除、图案化或特定层刻蚀。
• MEMS 器件：在微机电系统（MEMS）制造中，用于微结构加工。
• 先进封装：支持 3D 封装、晶圆级封装等先进技术中的刻蚀工艺。

4. 设备优势

• 高精度：INVAX 电极和 JEIDA ESC 技术确保刻蚀均匀性和晶圆稳定性。
• 高可靠性：泛林集团在半导体设备领域的技术积累，保障设备长期稳定运行。
• 灵活性：支持多种材料和工艺需求，适应不同应用场景。

5. 注意事项

• 设备维护：需定期校准电极和 ESC 系统，确保刻蚀精度。
• 工艺兼容性：需根据具体材料和工艺要求调整刻蚀参数。
• 技术支持：建议联系泛林集团官方或授权代理商获取详细技术文档和售后服务。

6. 市场定位

该设备属于泛林集团中高端产品线，适用于对刻蚀均匀性和工艺稳定性要求较高的半导体制造和先进封装领域。